System 82-WIN同步C-V量測系統
型號:SYSTEM82-WIN
Keithley C-V 軟體提供廣泛量測值及計算數值分析以協助半導體工廠縮短銷售時間並維持元件良率。我們的解決方案己經在全球各個應用中被使用,包括了:
• 開發及整合新的半導體製程
• 新材料及元件製程的研究及開發,如薄氧化層,高及低絕緣係數的介電質
• 後金屬化的製程特性
• 元件可靠度
• 分析錯誤機制
System 82-WIN 提供同步的 C-V 量測, 高低頻的C-V 量測可以同時在一個電壓掃瞄中被執行。Keithley特殊的同步技術可以改善 C-V 量測的準確度。這個技術減少多次量測,理論圖形及參雜濃度假設的需要。同步 C-V 測試搭配整合好的 I-V 系統能提供廣泛的附加好處。此同步量測方法減去元件因第一次和第二次電壓掃瞄造成元件特性改變所產生的誤差。此種方法也可以減去圖形曲線因不同因素造成漂 移而產生的錯誤。在自動化測試中使用這種方去不但可以增加產能也可以減低硬體和軟體整合上的問題。
*如要找完整的產品資訊-請在瀏覽頁上的搜尋方塊內鍵入您要搜尋的型號
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Keithley C-V 軟體提供廣泛量測值及計算數值分析以協助半導體工廠縮短銷售時間並維持元件良率。我們的解決方案己經在全球各個應用中被使用,包括了:
• 開發及整合新的半導體製程
• 新材料及元件製程的研究及開發,如薄氧化層,高及低絕緣係數的介電質
• 後金屬化的製程特性
• 元件可靠度
• 分析錯誤機制
System 82-WIN 提供同步的 C-V 量測, 高低頻的C-V 量測可以同時在一個電壓掃瞄中被執行。Keithley特殊的同步技術可以改善 C-V 量測的準確度。這個技術減少多次量測,理論圖形及參雜濃度假設的需要。同步 C-V 測試搭配整合好的 I-V 系統能提供廣泛的附加好處。此同步量測方法減去元件因第一次和第二次電壓掃瞄造成元件特性改變所產生的誤差。此種方法也可以減去圖形曲線因不同因素造成漂 移而產生的錯誤。在自動化測試中使用這種方去不但可以增加產能也可以減低硬體和軟體整合上的問題。
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page updated: 2005-07-29

